關于翻譯論文可否在《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志發(fā)表需結合不同期刊政策和學術規(guī)范綜合分析，具體情況可以聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。
以下是對此情況的詳細分析：
一、直接翻譯并重新發(fā)表（通常不允許）
（1）?學術不端行為：將外文論文翻譯后重新投稿屬于?剽竊/重復發(fā)表?，違反學術倫理，可能被撤稿并列入黑名單。
（2）?版權問題：即使翻譯自己的論文，若原期刊已轉讓版權，需獲得出版商書面授權。
二、允許的特殊情況
（1）獲得授權并聲明：部分期刊允許作者翻譯已發(fā)表論文至其他語言版本，但需獲得原期刊授權。
（2）作為綜述或研究的引用部分：可翻譯部分段落用于自己的研究（如文獻綜述），但必須引用原文并標注為翻譯，避免大段直接翻譯，需結合分析或改寫。
當前主流雜志對翻譯文持審慎開放態(tài)度，合規(guī)使用需滿足透明性和權責明晰原則?。
雜志概況
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是一本專注于工程：化工領域的學術期刊，提供ENGINEERING, CHEMICAL關鍵概念的最新概述。
ISSN：0272-4324，E-ISSN：1572-8986
創(chuàng)刊時間：1981年
出版周期：Quarterly
出版商：Springer US
出版國家：UNITED STATES
語言：English
收錄數(shù)據(jù)庫：SCIE
是否OA：未開放
是否預警：否
年發(fā)文量：123
內(nèi)容類型：該雜志涵蓋了物理與天體物理及相關學科的所有方面，包括基礎和應用研究，使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該雜志歡迎涉及物理與天體物理領域的原創(chuàng)理論、方法、技術和重要應用的稿件，并刊載了涉及ENGINEERING, CHEMICAL領域的相關欄目：綜述、論著、述評、論著摘要等。
影響力：CiteScore數(shù)值為5.9，SJR數(shù)值為0.48，SNIP數(shù)值為0.912。
期刊Plasma Chemistry And Plasma Processing近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖
期刊CiteScore趨勢圖
中科院分區(qū)：在中科院分區(qū)中，最新分區(qū)信息顯示，該雜志在大類學科“物理與天體物理”中位于3區(qū)，在小類學科“ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工”中位于3區(qū),“PHYSICS, APPLIED物理：應用”中位于3區(qū),“PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流體與等離子體”中位于3區(qū)。
JCR分區(qū)：在JCR分區(qū)中位于Q2區(qū)，（按JIF指標學科分區(qū)學科：“ENGINEERING, CHEMICAL”中位于Q3區(qū),“PHYSICS, APPLIED”中位于Q2區(qū),“PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS”中位于Q2區(qū)，按JCI指標學科分區(qū)學科：“ENGINEERING, CHEMICAL”中位于Q2區(qū),“PHYSICS, APPLIED”中位于Q2區(qū),“PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS”中位于Q2區(qū)。）
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志審稿周期預計為 較慢,6-12周 。該雜志近期并未被列入國際期刊預警名單，這意味著其學術質(zhì)量和影響力得到了廣泛認可。
