《Ieee Signal Processing Letters》雜志影響因子：3.2。
期刊Ieee Signal Processing Letters近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
以下是一些常見的影響因子查詢?nèi)肟冢?
（1）Web of Science：是查詢SCI期刊影響因子的權(quán)威平臺，收錄全球高質(zhì)量學(xué)術(shù)期刊，提供詳細(xì)的期刊引證報告，包括影響因子、分區(qū)、被引頻次等關(guān)鍵指標(biāo)。
（2）?Journal Citation Reports (JCR)：JCR是科睿唯安旗下的一個網(wǎng)站，提供了期刊影響因子、引用數(shù)據(jù)和相關(guān)指標(biāo)。用戶可以在該網(wǎng)站上查找特定期刊的影響因子信息。
（3）中科院SCI期刊分區(qū)表：提供中科院分區(qū)的期刊數(shù)據(jù)查詢，包括影響因子和分區(qū)信息。
《Ieee Signal Processing Letters》雜志是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版社主辦的一本以工程技術(shù)-工程：電子與電氣為研究方向，OA非開放（Not Open Access）的國際優(yōu)秀期刊。
該雜志出版語言為English，創(chuàng)刊于1994年。自創(chuàng)刊以來，已被SCIE（科學(xué)引文索引擴(kuò)展板）等國內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文，重點(diǎn)介紹了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC在分析和實(shí)踐中的理論、研究和應(yīng)用。
?學(xué)術(shù)地位：在JCR分區(qū)中位列Q2區(qū)，中科院分區(qū)為工程技術(shù)大類2區(qū)，ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣小類3區(qū)。
期刊發(fā)文分析
國家 / 地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
| 國家 / 地區(qū) | 發(fā)文量 |
| CHINA MAINLAND | 553 |
| USA | 228 |
| South Korea | 72 |
| India | 68 |
| France | 67 |
| England | 52 |
| Australia | 39 |
| Canada | 39 |
| Italy | 34 |
| Japan | 33 |
期刊引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計(jì)
| 期刊引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| IEEE T SIGNAL PROCES | 858 |
| IEEE SIGNAL PROC LET | 435 |
| IEEE T IMAGE PROCESS | 386 |
| IEEE T INFORM THEORY | 274 |
| IEEE T PATTERN ANAL | 194 |
| SIGNAL PROCESS | 145 |
| IEEE T AERO ELEC SYS | 131 |
| IEEE T WIREL COMMUN | 127 |
| IEEE SIGNAL PROC MAG | 107 |
| IEEE T COMMUN | 85 |
期刊被引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計(jì)
| 期刊被引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| IEEE ACCESS | 1347 |
| IEEE SIGNAL PROC LET | 435 |
| IEEE T SIGNAL PROCES | 347 |
| MULTIMED TOOLS APPL | 347 |
| SIGNAL PROCESS | 313 |
| SENSORS-BASEL | 293 |
| DIGIT SIGNAL PROCESS | 186 |
| IEEE T VEH TECHNOL | 171 |
| IEEE T IMAGE PROCESS | 166 |
| IEEE T COMMUN | 164 |
文章引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計(jì)
| 文章引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
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