《電子工業專用設備》雜志審稿周期為預計1個月內。
以下是查詢雜志審稿周期的方法:
1、查看期刊官網:許多雜志會在其官方網站的 “作者須知”“投稿指南” 或 “常見問題” 等板塊中,明確給出大致的審稿周期。
2、參考作者投稿經驗分享:可以在一些相關的學術交流平臺上,搜索雜志的名稱,其中通常會提到從投稿到收到審稿意見的時間,從而了解其大致的審稿周期。
3、分析期刊過往發表文章:隨機選取該雜志最近幾期發表的文章,查看每篇文章的投稿日期、接收日期和發表日期,通過計算時間間隔,能對該雜志的審稿及發表速度有一個直觀的認識。
4、咨詢期刊編輯:如果在官網上未找到明確的審稿周期信息,也沒有找到合適的作者投稿經驗分享,可以直接通過期刊官網提供的聯系方式咨詢。
《電子工業專用設備》雜志創刊于1971年,是由中國電子科技集團公司主管的學術理論期刊,該雜志為雙月刊,國內外公開發行,國內刊號為CN 62-1077/TN,國際刊號為ISSN 1004-4507,雜志社位于北京市朝陽區安貞西里26號浙江大廈913室。
該雜志的辦刊宗旨是反映電子改革與發展的最新成果,探索電子規律,為深化電子改革、繁榮電子科學服務。其內容突出理論性、學術性、實用性和探索性等特點,主要欄目包括先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養等。
《電子工業專用設備》雜志在全國影響力巨大,創刊于1971年,公開發行的雙月刊雜志。創刊以來,辦刊質量和水平不斷提高,主要欄目設置有:趨勢與展望、專題報道、IC前沿制程、封裝與測試、行業快訊、新技術應用、企業介紹等。
《電子工業專用設備》是目前國內電子專用設備領域唯一獲正規出版發行的權威專業刊物,多年來為推動我國電子專用設備的發展發揮了極其重要的作用。
電子工業專用設備雜志發文分析
電子工業專用設備主要機構發文分析
機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
中國電子科技集團公司第四十五... | 646 | 半導體;光刻;晶圓;電機;拋光 |
中國電子科技集團公司第二研究... | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝 |
中國電子科技集團公司第四十八... | 168 | 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入 |
中國電子科技集團公司第四十六... | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區熔 |
電子工業部 | 115 | 半導體;光刻;曝光機;切片;切片機 |
北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝 |
中華人民共和國工業和信息化部 | 75 | 光刻;電路;電子專用設備;集成電路;半導體 |
中國電子科技集團公司 | 68 | 電路;集成電路;化學機械拋光;機械拋光;晶片 |
中國電子科技集團第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機;投影光刻 |
中國科學院 | 54 | 光刻;光刻機;電路;半導體;電子束曝光 |
電子工業專用設備主要資助項目分析
資助項目 | 涉及文獻 |
國家自然科學基金 | 39 |
國家高技術研究發展計劃 | 37 |
國家科技重大專項 | 29 |
國家重點基礎研究發展計劃 | 7 |
海南省自然科學基金 | 6 |
湖南省自然科學基金 | 3 |
國家火炬計劃 | 3 |
國防基礎科研計劃 | 2 |
電子信息產業發展基金 | 2 |
國際科技合作與交流專項項目 | 2 |